Квалификация ОСЧ - очень высокая, такие реактивы запредельно дороги. Используются соответственно очень редко, для прецизионного химического анализа, калибровки, иногда для полупроводниковой промышленности и тонкого органического синтеза (лекарств например) Ну и для научных исследований
Для полупроводниковой промышленности класс ОСЧ используется ВСЕГДА. Там другого, собсно, и нет, а понятие "химический чистое вещество" означает непролазную грязь. Что запросто можно понять на пальцах. Концентрация собственных атомов кремния - порядка 10 в 23-й на куб. см, а концентрация атомов примеси привести к заметному изменению электрических свойств кремния, - порядка 10 в 14. То есть на 9 порядков меньше. Причём степень неоднородности такой концентрации - порядка единиц процентов, то есть относительно исходного вещества это 10 в -10-й. Концентрация атомов кислорода в кремнии для ПЗС контролируется на уровне 10 в 12 на куб см (кислород там необходим для геттерирования). Это относительная концентрация 10 в -11 степени. Гомеопаты завистливо курят в сторонке. Причём это КОНТРОЛИРУЕМЫЕ примеси, которые вводятся в полупроводник для управления его свойствами (например, удельным сопротивлением). А ведь приходится контролировать и неактивные примеси, но такие, которые дают заметный вклад в параметры приборов, - например, создают лишние уровни в запрещённой зоне, из-за которых возрасает темновой ток ПЗС-матриц. Чем ниже плотность таких уровней - тем качественнее прибор (на бытовом уровне - можно будет увеличивать выжержку при ночной съёмке до десятков секунд). И концентрация атомов, которые дают эти уровни, ообеспечивается на уровне порядка 10 в 8. То есть на 15 порядков ниже концентрации атомов основного вещества (кремния). И это не только по самому кремнию, но и по всем материалам, которые используются в производстве, - вода, газы (водород, кислород, азот, хлористый водород, силан...), легирующие примеси, реактивы для отмывки...
2KOH + 2AgNO3 = 2KNO3 + Ag2O + H2O
2k+ + 2OH- + 2Ag+ 2NO3- =2K+ + 2 NO3- + Ag2O + H2O
2OH- + 2Ag+ = Ag2O + H2O
KOH + HNO3 = KNO3 + H2O
K+ + OH- + H+ + NO3- = K+ + NO3- + H2O
H+ + OH- = H2O
ZnO + 2 KOH = K2ZnO2 + H2O
ZnO + 2K+ + 2OH- = 2K+ + ZnO2 2- + H2O
ZnO + 2OH- = ZnO2 2- + H2O
CO2 + 2KOH = K2CO3 + H2O
CO2 + 2K+ + 2OH- = 2K+ + CO3 2- + H2O
CO2 + 2OH- = CO3 2- + H2O
Квалификация ОСЧ - очень высокая, такие реактивы запредельно дороги.
Используются соответственно очень редко, для прецизионного химического анализа, калибровки, иногда для полупроводниковой промышленности и тонкого органического синтеза (лекарств например)
Ну и для научных исследований
Для полупроводниковой промышленности класс ОСЧ используется ВСЕГДА. Там другого, собсно, и нет, а понятие "химический чистое вещество" означает непролазную грязь.Что запросто можно понять на пальцах. Концентрация собственных атомов кремния - порядка 10 в 23-й на куб. см, а концентрация атомов примеси привести к заметному изменению электрических свойств кремния, - порядка 10 в 14. То есть на 9 порядков меньше. Причём степень неоднородности такой концентрации - порядка единиц процентов, то есть относительно исходного вещества это 10 в -10-й. Концентрация атомов кислорода в кремнии для ПЗС контролируется на уровне 10 в 12 на куб см (кислород там необходим для геттерирования). Это относительная концентрация 10 в -11 степени. Гомеопаты завистливо курят в сторонке.
Причём это КОНТРОЛИРУЕМЫЕ примеси, которые вводятся в полупроводник для управления его свойствами (например, удельным сопротивлением). А ведь приходится контролировать и неактивные примеси, но такие, которые дают заметный вклад в параметры приборов, - например, создают лишние уровни в запрещённой зоне, из-за которых возрасает темновой ток ПЗС-матриц. Чем ниже плотность таких уровней - тем качественнее прибор (на бытовом уровне - можно будет увеличивать выжержку при ночной съёмке до десятков секунд). И концентрация атомов, которые дают эти уровни, ообеспечивается на уровне порядка 10 в 8. То есть на 15 порядков ниже концентрации атомов основного вещества (кремния).
И это не только по самому кремнию, но и по всем материалам, которые используются в производстве, - вода, газы (водород, кислород, азот, хлористый водород, силан...), легирующие примеси, реактивы для отмывки...