1)Структура технических материалов далеко не всегда соответствует идеальным представлениям о регулярном расположении частиц в кристаллической решетке. Дефектами называют нгесовершенства кристаллического строения, нарушения строго периодического расположения частиц в узлах кристаллической решетки. Они образуются в процессе кристаллизации, под влиянием электрического и магнитного полей, тепловых и механических воздействий, при введении в кристаллы примесей. Так называемые радиационные дефекты возникают при облучении кристаллических материалов потоками частиц и жестким электромагнитным излучением. Классификация структурных дефектов проводится по их пространственной протяжённости. Различают дефекты: точечные (нульмерные), линейные (одномерные), поверхностные (2-х мерные) и объёмные (3-х мерные) дефекты.
Вариант №11. определите массу растворённого вещества, содержащегося в 200 мл 0,05м mnso42. определите молярную концентрацию (моль/л) растворённого вещества, если известны масса растворённого кристаллогидрата cuso4*5h2o mкр=8,75 г и объём раствора v(р)=1,5 л.3. какой объём раствора, в котором массовая доля h2so4 составляет 90%, надо взять для приготовления раствора объёмом 0,6 л молярной концентрации эквивалента 0,1 моль/л? вариант №21. определите массу растворённого вещества, содержащегося в 200 мл 0,015м li2so42. определите молярную концентрацию (моль/л) растворённого вещества, если известны масса растворённого кристаллогидрата cuso4*5h2o mкр=17,42 г и объём раствора v(р)=0,7 л.3. какой объём раствора, в котором массовая доля h2so4 составляет 90%, надо взять для приготовления раствора объёмом 0,6 л молярной концентрации эквивалента 0,1 моль/л?
